平成25年度九州表面・真空研究会2013（兼第18回九州薄膜表面研究会）
【主催】 応用物理学会九州支部、日本真空学会関西支部、日本表面科学会関西支部
・テーマ：新奇な薄膜・表面現象とその応用の最前線
・開催日時：2013年6月15日（土）9：00−18：00
・場所：福岡大学工学部 11号館 1111教室
（福岡市城南区七隈8-19-1）
在九州・沖縄の大学や企業で活躍する薄膜・表面関連分野の研究者が、互いの研究成果を交換し合い、薄膜・表面における種々の新規な現象とその応用について幅広く議論する場を持つことは、これからの材料やデバイスの開発および関連する基礎技術の発展に極めて重要です。また、これは九州・沖縄地方の薄膜・表面関連分野の研究活性化のみならず、大学院生及び若手研究者に対する教育事業の一環としても極めて有意義です。そこで、薄膜・表面に関連した分野、半導体表面、金属表面、磁性薄膜、有機分子薄膜、結晶成長、超微細加工、超格子デバイス、ナノ微粒子、プラズマ応用薄膜成長、放射光分析、炭素系新材料、ナノ応用デバイス、不均一触媒、摩擦応用、真空技術などを対象に、下記の要領で研究会を開催いたします。
皆さまのご参加をお待ちしております。
・特別講演：
木村昭夫先生（広島大）「スピン分解光電子分光で捉えるトポロジカル絶縁体の表面電子状態」
友景肇先生（福岡大)
・一般講演募集について
下記までお問い合わせください。
・講演申込締切：5/17（金）
・予稿原稿締切：5/25（土）
Ａ4用紙1ページ。書式ファイル。
・参加費：無料
・運営：鈴木孝将（福岡大学工学部 教授）
内藤正路（九州工業大学大学院 教授）
・問合せ・メール送付先
柳生数馬（福岡大学工学部）
TEL：092-871-6631(内線:6380), E-mail：yagyu(a)fukuoka-u.ac.jp
メールアドレスの@を(a)で表示しております。