第４９巻第９号目次
小特集「化学気相成長プロセスのシミュレーション」
－解 説－
密度汎関数法による化学反応計算の概説
------------土井謙太郎・阪本俊夫・毎田憲亮・立花明知
有機金属気相エピタキシー法におけるGaN薄膜の成長シミュ
レーション--------------大川和宏・平子 晃・徳田耕太
Siエピタキシャル薄膜作製プロセスのシミュレーション
--------------------------------------------羽深 等
Siエピタキシーの表面化学と成長モデリング------末光眞希
酸化物薄膜の成膜 －熱化学気相成長のモデル解析とシミュ
レーション－--------------------------------秋山泰伸
－製品紹介－
半導体製造装置内流れの数値シミュレーション
----------------フルーエント・アジアバシフィック(株)
数値流体力学を用いたGaN化学気相成長プロセスの最適化
--------------------------------(株)ウェーブフロント
一般論文
－解 説－
スパッタ原子輸送シミュレーションの応用
--------------------------------山崎登志成・吉澤寿夫
－研 究－
パイプコンダクタンスの対称性について (Ⅱ) 鏡面反射
--------------------------------------------楠本淑郎
a-Si:Hナノボール膜からの Photoluminescence のブルー
シフト------------------金本悠平・坂本 元・加藤 勇
－速 報－
パルスレーザー堆積法により低温成膜したAl-Zn-O系透明
導電膜------安倉秀明・高瀬康則・中村篤宏・東村佳則・
鈴木晶雄・青木孝憲・松下辰彦・奥田昌宏
水素希釈メタンプラズマガス－基板相互作用
----------------------------------奥野公夫・古本隆志
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