産業部会は，真空技術に関する多様な情報を紹介することを目的として活動を続けて
おります．第233回となる5 月定例部会は，プラズマに関する2 件のご講演をお願いしま
した．
　前半は，様々なプラズマ応用プロセスに取り組んでおられる企業のご講演です．半導
体産業におけるプラズマアッシャー，プラズマクリーナー，プラズマエッチャーなどの
シリコンウェーハやIC パッケージを始めとする幅広い分野での利用について，新しいプ
ラズマ応用として内視鏡等の長尺チューブを有する医療機器用の，減圧沸騰現象とプラ
ズマ照射を利用した殺菌装置の開発について，また，2010年の会社設立30周年へ向けて
の取り組みについて，お話しいただきます．
　後半は，薄膜形成におけるイオン，ラディカル粒子やプラズマの効果に関するご講演
です．反応性イオンプレーティングや有機無機複合（ハイブリッド）薄膜について，お
話しいただきます．また，長年にわたるイオンプレーティングのご研究において，ご経
験された失敗談，成功談などの，薄膜作製に携わる方々に有益なエピソードもご紹介い
ただきます．
　また毎回恒例となっておりますが，定例部会終了後に講師を囲んでの懇親会を開催い
たします．さらに深く突っ込んだディスカッションや情報交換の場としてご活用くださ
い．
　多数のご参加をお待ち申し上げます．

日　時：平成21年5月20日（水）14:00〜16:30
場　所：機械振興会館B3-1 号室（地下3 階）
参加費：無料

　　　　　　　　　　　　　　　ープログラムー

開会挨拶　　　　　　　　　　　（日本真空協会産業部会長）　土岐和之14:00〜14:10

1. プラズマ応用へのチャレンジ2010懼鴣会社設立30周年に向けて鴣
　　　　　　　（(株)モリエンジニアリング代表取締役社長）　畑中俊彦14:10〜15:10

　　　　　　　　　　　　　　　　　休　憩

2. イオンプレーティングを中心とした薄膜形成中のイオン，ラディカル粒子の効果
　　　　　　　　　　（東洋大学工学部電子情報工学科教授）　柏木邦宏15:30〜16:30

　講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．

　講師への質問，相互の情報交換等，有意義なディスカッションができますので，こち
らにも多数ご参加下さい．

◎次回の開催予定：平成21年6月17日（水）

申込み・問合せ先：日本真空協会事務局（荻野）
　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3431-5371
　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org