産業部会 ６月定例部会のお知らせ

　産業部会は，真空技術に関する多様な情報を紹介することを目的として活動を続けて
おります．第226回となる6月定例部会のプログラムをお知らせいたします．
　前半は，超高真空装置のための表面処理技術に関するご講演です．液晶・半導体関連
装置の高性能化に伴い，その部品の表面処理に対する技術的要求も益々高度なものになっ
てきています．これらの製造装置においては表面処理の選択が重要なポイントであり，
その性能に大きな影響を与えることになります．装置部品の多くは真空中で使われるの
で，精密洗浄によって汚れを確実に除去することはもちろんのこと，処理表面自体にガ
ス放出低減，パーティクル発生低減等の性能が求められています．ご講演では，それら
の最前線の処理について紹介していただきます．
　後半は，分圧真空標準に関するご講演です．産総研では2007年度に，二段式流量分配
法による分圧真空計の校正サービス（依頼）を開始しました．この校正装置の概要，校
正原理について紹介していただきます．また，校正装置を用いて，分圧真空計の特性
（感度の直線性や安定性）について調べた結果も併せて報告していただきます．
　終了後には，講師を囲んでの懇親会も開催いたします．さらに深く突っ込んだディス
カッションや情報交換の場としてご活用ください．多数のご参加をお待ち申し上げてお
ります．

日　時：平成20年6月18日（水）14:00-16:30
場　所：機械振興会館　B3-2号室（地下3階）
参加費：無　料

　　　　　　　　　　　　　　―プログラム―

開会挨拶　　　　　　　　　（日本真空協会　産業部会長）　及川　永　14:00-14:10

１．デバイス製造用超高真空装置のための表面処理技術
　　　　　　　（三愛プラント工業クリーンテック事業本部）石澤克修　14:10-15:10

　　　　　　　　　　　　　　　ー休　憩ー

２．分圧真空標準の立ち上げ
　　　　　　　　（産業技術総合研究所　計測標準研究部門）吉田　肇　15:30-16:30

なお，講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．講師への
質問、相互の情報交換等，有意義なディスカッションができますので，こちらにも多数
ご参加下さい．

申込み・問合せ先：日本真空協会事務局（荻野）
　　　　　　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8 機械振興会館306号室
　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395　FAX:03-3431-5371
　　　　　　　　　E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org