産業部会　3月定例部会のお知らせ

産業部会は，真空技術に関する多様な情報を紹介することを目的として活動を続
けております．
第216回となる3月定例部会のプログラムをお知らせいたします．今回も2名の講
師をお呼びしております．前半の講演は，蒸着やスパッタリングによる光学薄膜
作製技術について包括的に解説されます．後半の講演は，レーザによる原子の極
低温への冷却とその応用における極高真空の必要性や，新しい真空測定法の提案
などが解説されます．終了後には，恒例となっている講師を交えた懇親会も開催
しますので，さらに深く突っ込んだディスカッションや情報交換の場としてご活
用ください．多数のご参加をお待ち申し上げております．

日　　時：　　平成19年3月14日（水）14:00-16:30
場　　所：　　機械振興会館　B3-2号室（地下3階）
参 加 費：　　無　料

―プログラム―

開会挨拶　　　　　（日本真空協会　産業部会長）　及川 　 永　14:00-14:10

１．光学薄膜作製技術の現状について
　　　　　　（（株）シンクロン　技術調査室）　大工原　茂樹　14:10-15:10

休　　憩

２．極高真空技術のニュー・トレンド
　　　　　　　　　　（電気通信大学　名誉教授）　宅間　　宏　15:30-16:30

なお，講演終了後，講師をお招きして懇親会（会費2,000円）を開催します．講
師への質問、相互の情報交換等，有意義なディスカッションができますので，こ
ちらにも多数ご参加下さい．

次回の開催予定：　平成19年5月16日（水）　機械振興会館

申込み・問合せ先：　日本真空協会　事務局（荻野）
　　　　　　　　　　〒105-0011　東京都港区芝公園3-5-8　機械振興会館306号室
　　　　　　　　　　TEL:03-3431-4395     FAX:03-3433-5371
                    E-mail:ofc-vsj@vacuum-jp.org